日企主動對標限制，ASML松了一口氣！外媒：結局已注定了

半導體行業發展了這麼多年，很多企業都是浮浮沉沉，可以說沒有永遠的巨頭。光刻機領域也不例外，曾經日本的尼康和佳能是全球光刻機巨頭，後來變成了ASML。

如今，ASML憑借獨家生產高端EUV光刻機領先，讓其沒有料到的是，近日佳能推出了不用EUV就可以生產5nm的設備。但卻主動對標限制，讓ASML松了一口氣。

如今， 全球能夠生產芯片制造用的光刻機只有四家，分別是荷蘭ASML、日本尼康和佳能、我國上海微電子。但大家不知道的是，最初美企才是光刻機行業的引領者。

上世紀60年代，美企GCA制造出第一台接觸式光刻機，迅速成為當時的主流產品。

ASML的前身Natlab于1967年研制光刻機原型，雖然在精密技術和設備上有優勢，但并沒有得到廣泛關注。直到1981年GCA銷售額不斷攀升，而Natlab差點被出售。

之后，光刻機市場開始出現變局。之前，日本尼康和佳能一直給美企GCA供應鏡頭等配件，在這個過程中不斷學習，也開始研發光刻機，為後來超越奠定了堅實基礎。

隨著全球半導體產業向日本進行第一次大遷移，尼康于1980年推出了第一台步進式光刻機，因為在穩定性和自動化程度上更加優異，尼康和佳能的產品迅速占領市場。

而以GCA為首的美方光刻機企業不斷衰退，GCA擴產后光刻機賣不出最終導致破產。

等于美系光刻機稱霸了20年后，日本光刻機開始登場，這后日系光刻機又稱霸20多年。就在日本光刻機崛起過程中，ASML于1984正式成立 ，整合了Natlab產業。

ASML成立 后，迅速解決光刻機大規模生產的難題，并且進一步提升光刻機的精度要求，技術優勢開始展現，1987年與台積電開展合作，1989年市占率達到15%。

很快，ASML市場份額就超過了日本佳能，到上個世紀末對手就只剩下了日本尼康。

到2004年，ASML采用了林本堅的浸潤式光刻技術，和台積電共同研發出了浸沒式DUV光刻機。此后ASML開始逆襲，迅速超過尼康成為全球光刻機領域的巨頭。

後來，ASML更是一騎絕塵，研發出更先進的EUV光刻機，坐穩全球光刻機第一。

然而，在ASML稱霸光刻機市場20多年后，光刻機的變局又開始出現。不僅尼康突破了浸沒式DUV光刻機，佳能更是另辟蹊徑，實現不用EUV就能生產5nm的設備。

日本佳能的新型光刻機采用的是納米壓印技術，采用了不同于ASML的EUV光刻技術方案，直接通過壓印形成圖案。重點是，可以不使用EUV，就能制造5nm芯片。

值得一提的是，佳能新型光刻機相比EUV光刻機，價格和耗能都是它的10%左右。

雖然美方一直在阻撓先進光刻機出貨，日本、荷蘭都先后宣布實施出口管制，ASML的EUV和浸潤式DUV等先進光刻機被限制，但均未對納米壓印光刻機做出任何限制。

然而，佳能CEO給出明確回應，表示基于納米壓印技術的光刻機無法向大陸出口。因為人家主動對標了日本出口管制規則，任何超過14nm技術的設備都被禁止出口。

要知道，ASML無法向大陸市場出貨EUV光刻機，如果佳能抓住機會出貨，恐怕就能迅速占領大陸的高端光刻機份額，但佳能卻主動限制，這讓ASML松了一口氣！

如果換成ASML的話，肯定會利用一切可以利用的機會，必然會加速出貨占領市場。

今年以來，盡管美方不斷收緊限制規則，但ASML抓住有限的時間，加速向大陸市場出貨盡可能多的光刻機，二季度來自大陸營收占比達到24%，三季度升到46%。

對此有外媒表示：光刻機結局已注定了，之后高端光刻機均不能向大陸出貨，只能出貨成熟制程光刻機。大陸要實現高端芯片，就只能依賴自己突破的國產光刻機了。

這無疑給了上海微電子發展機會，未來自研的國產高端光刻機必然會占據一席之位。