我們芯片技術追上美國，達到7nm？美國很憤怒：斷供DUV光刻機

在今年上半年的時候，全球芯片制造技術進入10nm的廠商，全球只有三家，分別是台積電、三星搞定了3nm，而intel搞定了7nm。

其它所有芯片廠商，其制造技術均在10nm之外，比如中芯國際對外公開的一直是14nm，而格芯、聯電等還在28nm，華虹則在40nm……

而台積電、三星、intel一直是美國掌控的，所以美國對于這三家搞定10nm及以下的芯片技術，一點都不擔心。

美國擔心的是中國大陸的企業，搞定10nm及以下的技術，所以我們看到，在去年10月份的時候，美國出台所謂「史上最嚴」的芯片禁令，將用于14nm芯片以下的設備全部禁了。

美國認為，沒有了用于14nm以下工藝的半導體設備，估計就制造不出10nm、7nm這個級別的芯片了吧，那就會被鎖死在14nm，以后的先進芯片，只能從美國進口，美國就能夠獲得經濟利益、政治利益。

不曾想，華為Kirin9000S橫空出世，狠狠的打了美國一個耳光，直接告訴美國，你禁了14nm以下的半導體設備也沒用， 我們也能搞出等效于7nm的芯片出來，突破你的封鎖，因為這顆芯片等效于台積電的N7工藝，而性能居然與高通驍龍888這顆5nm的芯片媲美。

這顆芯片讓美國很憤怒，所以我們看到這顆芯片發布之后，美國的政客們上竄下跳的，各種封殺這個、封殺那個的說法叫囂不停。

最后，果然美國還是升級了芯片禁令，將高端的DUV全禁了，連ASML在去年禁令下，原本可以出口的唯一一台浸潤式光刻機NXT:1980Di也禁了，新的禁令規則之下，已經不能再出口到中國大陸來了。

如果接下來ASML針對浸潤式光刻機不進行閹割，針對中國大陸市場做出修改，那麼所有浸潤式光刻機，都不能賣給中國，全面斷供。

美國的想法很明顯，既然浸潤式光刻機，可以采用多重曝光技術，最終實現7nm，那麼我將所有浸潤式光刻機都禁了，看你如何搞出7nm芯片來。

那麼問題來了，接下來我們還會有7nm芯片，甚至5nm、3nm芯片麼？

在我看來，當然會有的，短時間之內的話，之前買的那些浸潤式光刻機，一樣可以用的，解決短期需求沒點問題，至少7nm不是問題。

而從長期來看的話，國內光刻機會突破的，從之前媒體曝光的情況來看，離我們自己搞出浸潤式光刻機，估計也不遠了。

所以這次斷供高端DUV光刻機，估計美國依然是徒勞，只會讓中國芯片產業鏈加速崛起，你覺得呢？

當然，在這個過程中，我們還需要低調，努力，更不能自嗨，目前我們的芯片供應鏈和美國比起來，確實弱很多，所以埋頭苦干，少吹牛干實事才是正道。